İnteqral mikrosxemlərin və yarımkeçirici cihazların hazırlanmasında fotolitoqrafiya prosesləri zamanı lövhənin fotorezist təbəqəsini ekspone etməklə fotomaska və yarımkeçirici lövhə üzərində təsvirlərin birləşdirilməsi və təsvirin fotomaskadan lövhəyə ötürülməsi (Emissiya diodunun dalğa uzunluğu: 365nm, 400nm)